一种抛光垫
授权
摘要
本发明公开一种抛光垫，包括研磨层，研磨层与直径为Dw的被研磨材料直接接触，所述研磨层包括至少两个同心圆沟槽，定义最内侧的同心圆沟槽为第一同心圆，最外侧的同心圆沟槽为第二同心圆；第一同心圆和第二同心圆界定多个研磨区域，由圆心到研磨层边缘三个研磨区的宽度依次为W1,W2,W3，其中第二研磨区宽度W2满足：W2＝0.8Dw‑0.995Dw；本发明通过对抛光垫的不同研磨区及其沟槽的相关参数以及研磨层，缓冲层物性参数进行综合设计，使得本发明的抛光垫具有优异的综合性能。
基本信息
专利标题 ：
一种抛光垫
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112720282A
申请号 ：
CN202011614266.7
公开（公告）日 ：
2021-04-30
申请日 ：
2020-12-31
授权号 ：
CN112720282B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
刘敏王腾邱瑞英黄学良杨佳佳张季平
申请人 ：
湖北鼎汇微电子材料有限公司;长江存储科技有限责任公司;湖北鼎龙控股股份有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市经济技术开发区东荆河路1号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202011614266.7
主分类号 ：
B24D7/00
IPC分类号 ：
B24D7/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24D
磨削、抛光或刃磨用的工具
B24D7/00
不仅以周边起作用的黏结砂轮或镶入磨块的砂轮；及其衬套或固定件
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2021-05-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24D 7/00
申请日 : 20201231
申请日 : 20201231
2021-04-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
