光学元件疵病的抑制设备及方法
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摘要

本申请提供一种光学元件疵病的抑制设备及方法,该光学元件疵病的抑制设备包括:吹扫装置、吸附装置、第一吸盘和洁净容器,吸附装置、吹扫装置与第一吸盘均安装在洁净容器中;吹扫装置的出风口对向光学元件的待吹扫面;第一吸盘设置于洁净容器的底座上,第一吸盘与吸附机构相对设置;吸附装置用于吸附光学元件的吸附面,并通过升降机构驱动吸附机构将光学元件调整至吹扫高度;吹扫装置用于吹扫光学元件的待吹扫面;吸附装置用于将吹扫后的光学元件放置于第一吸盘上进行吸附,通过第一吸盘完成对光学元件的真空吸附装夹。因此能够解决光学元件在真空吸附装夹过程中,存在容易产生表面疵病的技术问题。

基本信息
专利标题 :
光学元件疵病的抑制设备及方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112845372A
申请号 :
CN202011644590.3
公开(公告)日 :
2021-05-28
申请日 :
2020-12-31
授权号 :
CN112845372B
授权日 :
2022-05-03
发明人 :
张剑锋张帅雷向阳安晨辉汪圣飞高锐苏文虎张利平王健许乔
申请人 :
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
申请人地址 :
四川省成都市武侯区科园一路3号
代理机构 :
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
余菲
优先权 :
CN202011644590.3
主分类号 :
B08B5/02
IPC分类号 :
B08B5/02  B08B11/00  B08B11/02  B08B9/28  B08B9/34  B08B13/00  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B5/00
利用空气流动或气体流动的清洁方法
B08B5/02
用喷气力来清洁,如吹清凹处
法律状态
2022-05-03 :
授权
2021-06-15 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B08B 5/02
申请日 : 20201231
2021-05-28 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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