一种同轴送粉式激光熔覆喷嘴
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摘要
一种同轴送粉式激光熔覆喷嘴，涉及激光熔覆技术领域。所述喷嘴为分体式结构，由内喷嘴和外喷嘴两部分组成，内、外喷嘴均为上端宽口，下端窄口的锥体结构；内喷嘴为中空结构，并嵌套于外喷嘴内部，内喷嘴外壁与外喷嘴内壁形成粉末流动空腔。内喷嘴外壁与外喷嘴内壁均采用物理气相沉积法沉积耐磨涂层TiN/TiAlN等，降低了长时间使用条件下粉末对喷嘴内壁的磨损。本实用新型结构简单，提高了粉末汇聚性和光粉的耦合性，解决了现有同轴送粉式激光熔覆喷嘴内壁磨损快，喷嘴端部易烧蚀，堵粉情况下喷嘴更换复杂等问题。
基本信息
专利标题 ：
一种同轴送粉式激光熔覆喷嘴
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020005442.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-03
授权号 ：
CN211872087U
授权日 ：
2020-11-06
发明人 ：
王淼辉郭瑞峰杜博睿葛学元肖宁申博文徐一斐
申请人 ：
北京机科国创轻量化科学研究院有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区学清路18号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020005442.6
主分类号 ：
C23C24/10
IPC分类号 ：
C23C24/10
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C24/00
自无机粉末起始的镀覆（熔融态覆层材料的喷镀入C23C4/00；固渗入C23C8/00-C23C12/00
C23C24/08
加热法或加压加热法的
C23C24/10
覆层中临时形成液相的
法律状态
2020-11-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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