恒温装置以及MOCVD设备
授权
摘要
本实用新型提供一种恒温装置以及MOCVD设备，其中，一种恒温装置包括至少两个槽体，至少一个所述槽体内设置有恒温组件，所述恒温组件用于保持所述槽体内的液体的温度恒定，两个所述槽体之间连通有两个导流管，两个所述导流管分别与两个水泵连接，两个所述水泵用于驱动两个所述导流管内的液体向相反方向流动，以使得两个所述槽体内的液体循环流动。本实用新型提供一种恒温装置以及MOCVD设备，耗能低，有利于降低恒温装置的成本，提高生产利润。
基本信息
专利标题 ：
恒温装置以及MOCVD设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020018323.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-06
授权号 ：
CN211170886U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
杨彬斌蔡武黄小辉陈向东杨东康建
申请人 ：
圆融光电科技股份有限公司
申请人地址 ：
安徽省马鞍山市经济技术开发区宝庆路399号
代理机构 ：
北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人 ：
张子青
优先权 ：
CN202020018323.4
主分类号 ：
C23C16/46
IPC分类号 ：
C23C16/46 C23C16/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/46
以加热基体的方法为特征的
法律状态
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
