一种负压旋转X光片架
专利权的终止
摘要
本实用新型涉及一种负压旋转X光片架，属于医疗器械技术领域。一种负压旋转X光片架，包括架体和负压风机，所述架体包括底盘和多面体转架，所述多面体转架包括侧壁和腔体，腔体内设置有支撑柱，所述支撑柱内设置有负压风机的风管，支撑柱外侧设置有线性灯管和风管支管，所述多面体转架的侧壁外壁面上均匀设置有风孔，风管支管两端分别连风管和风孔。本实用新型操作方便，固定X光片时，只需要将光片靠近，便能吸附在多面体转架上。可以一次性旋转观察多张X光片，方便对比。设置滑轮，方便移动。
基本信息
专利标题 ：
一种负压旋转X光片架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020022517.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-07
授权号 ：
CN211577570U
授权日 ：
2020-09-25
发明人 ：
彭霈彭森张明明
申请人 ：
彭霈
申请人地址 ：
山东省菏泽市牡丹区万福办事处泰山路869号
代理机构 ：
济南泉城专利商标事务所
代理人 ：
刘庆兰
优先权 ：
CN202020022517.1
主分类号 ：
G02B27/02
IPC分类号 ：
G02B27/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/02
观看或阅读仪器
法律状态
2021-12-17 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02B 27/02
申请日 : 20200107
授权公告日 : 20200925
终止日期 : 20210107
申请日 : 20200107
授权公告日 : 20200925
终止日期 : 20210107
2020-09-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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