地下水循环井原位修复装置
授权
摘要

本实用新型提供一种地下水循环井原位修复装置,包括:循环井,包含设置在井孔内的循环井管,该循环井管具有位于地下水面下方的上层筛管和下层筛管、以及设置在上层筛管和下层筛管之间的实管;封隔器,固定设置在实管内,把循环井管的内部空间分隔成上层腔室和下层腔室;抽水泵,固定设置在封隔器上;曝气单元,包含曝气管以及分别与该曝气管的顶端和底端部相连接的曝气器和曝气头,该曝气头设置在上层筛管内;以及真空抽提单元,包含一端伸入至上层腔室内且位于地下水面的上方的抽气管以及与该抽气管的另一端相连接的真空泵,其中,抽水泵具有进水口和出水口,进水口与上层腔室相连通,出水口与下层腔室相连通。

基本信息
专利标题 :
地下水循环井原位修复装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020028473.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-07
授权号 :
CN211664865U
授权日 :
2020-10-13
发明人 :
庄健鸿袁灵贵孙海波闫冬冬
申请人 :
上格环境科技(上海)有限公司
申请人地址 :
上海市虹口区海宁路137号7层E座781J室
代理机构 :
上海凯玛顿知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
刘国华
优先权 :
CN202020028473.3
主分类号 :
C02F9/04
IPC分类号 :
C02F9/04  B01D53/04  C02F103/06  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F9/00
水、废水或污水的多级处理
C02F9/04
至少有一个化学处理步骤
法律状态
2020-10-13 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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