一种湿法工艺设备辅助排气装置及湿法工艺设备排气系统
授权
摘要

本实用新型公开了一种湿法工艺设备辅助排气装置及湿法工艺设备排气系统,所述湿法工艺设备辅助排气装置包括组合使用的转接机构,所述转接机构包括转接管道、湿法端连接法兰及厂端连接法兰,所述转接管道为L型管道结构,转接管道的两个端口分别安装有所述湿法端连接法兰及厂端连接法兰,所述湿法端连接法兰所述厂端连接法兰的安装方向垂直,不同的所述转接机构间湿法端连接法兰与转接管道之间的距离不同。本实用新型的辅助排气装置采用组合使用的转接机构,转接机构的主体呈L型,可以应用于不同厂端管道的安装,不同的管道之间不会相互影响,整体能够形成有序的排列方式,不影响设备的使用及调试过程。

基本信息
专利标题 :
一种湿法工艺设备辅助排气装置及湿法工艺设备排气系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020033593.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-08
授权号 :
CN212032989U
授权日 :
2020-11-27
发明人 :
邓信甫蔡嘉雄徐铭王雪松陈佳炜
申请人 :
江苏启微半导体设备有限公司
申请人地址 :
江苏省南通市启东经济开发区林洋路2015号
代理机构 :
上海智力专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
杜冰云
优先权 :
CN202020033593.2
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-11-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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