一种提高各支路电流匹配度装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种提高各支路电流匹配度装置，包括第一电流镜、第二电流镜和校准电路，第一电流镜的输入端连接有基准电流源Iref，第一电流镜的输出端与第二电流镜的输入端连接，第二电流镜的输出端与校准电路连接；基准电流源Iref经过第一电流镜和第二电流镜后，对镜像得到的各个电流支路进行逐个校准并输出。保证了各个支路输出电流的一致性，能很好的解决器件失配导致的一致性差的问题，同时又不增大芯片面积，非常适用于对各个通道电流一致性要求高的应用场合。
基本信息
专利标题 ：
一种提高各支路电流匹配度装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020075217.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-14
授权号 ：
CN211606892U
授权日 ：
2020-09-29
发明人 ：
李高林陈壮梁
申请人 ：
武汉韦尔半导体有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷大道77号光谷金融港Al栋泰康人寿大楼18楼
代理机构 ：
湖北武汉永嘉专利代理有限公司
代理人 ：
乐综胜
优先权 ：
CN202020075217.X
主分类号 ：
H05B47/10
IPC分类号 ：
H05B47/10
法律状态
2020-09-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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