本实用新型属于抛光设备领域，尤其是一种光学抛光设备的研磨盘机构，针对现有的光学设备多数采用研磨盘的方式进行加工，上磨盘的操作方式比较单一，不能根据不同的抛光材料选择上磨盘的状态，适用范围不普遍的问题，现提出如下方案，其包括底座，所述底座的顶部开设有安装槽，且安装槽的底部内壁上转动安装有竖轴，竖轴的顶部延伸至底座的上方，所述竖轴的顶部固定安装有下磨盘，所述底座的顶部固定安装有环盘，且下磨盘的顶部延伸至环盘的内部，本实用新型较之传统的抛光设备，可以根据不同的待抛光材料来选择上磨盘的状态，能够满足生产的需求，扩展适用范围，可实施性强。