气雾产生装置及其气雾产生基质

授权

摘要

本实用新型提供了一种气雾产生装置及其气雾产生基质，包括受热后能产生气雾的主体，主体中分布有磁颗粒，以通过磁颗粒发生电磁感应而发热，进而加热主体，气雾产生基质还包括套在主体外的用于辅助主体散热的降温件。本实用新型还提供了一种气雾产生装置，包括气雾产生基质以及加热不燃烧烘烤装置，加热不燃烧烘烤装置包括的供电磁感应加热组件通过电磁感应使气雾产生基质中的磁颗粒发热，进而加热气雾产生基质。由于气雾产生基质的主体中分布有磁颗粒，热能无需长距离传递，因此气雾产生基质可以快速的被烘烤出挥气雾，加热时间大幅缩短。由于气雾产生基质的主体外套有降温件，所以可实现一旦停止加热，气雾产生基质的主体快速冷却，实现了快速加热快速冷却目的。

基本信息

专利标题：

气雾产生装置及其气雾产生基质

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020097697.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-01-16

授权号：

CN212014450U

授权日：

2020-11-27

发明人：

周宏明张蛟肖俊杰

申请人：

深圳麦克韦尔科技有限公司

申请人地址：

广东省深圳市宝安区西乡街道固戍社区东财工业区16号

代理机构：

深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙)

代理人：

张约宗

优先权：

CN202020097697.X

主分类号：

A24F40/465

IPC分类号：

A24F40/465 A24F40/40 A24F40/42