本实用新型涉及一种高清洁度要求的壳体清洗设备，包括机体、清洗机构、传动机构和支架组件，机体包括上端可水平转动的转台，传动机构包括竖直滑移连接在转台侧端的两根传动臂、转动连接在传动臂下端的转轴；转轴下端设置有支架组件，支架组件包括位于上端的第一连接板、位于下端的第二连接板、连接杆和放置横杆；支架组件还包括置物架，置物架包括连接在第一连接板和第二连接板之间的置物杆、设置在放置横杆和第二连接板外端的多根限位杆、设置在第二连接板上端和放置横杆上端的限位架以及设置在置物杆外端的两根插接杆；清洗机构包括设置在机体一侧的超声波清洗池。本实用新型具有保护壳体安全清洗，加快壳体清洗速率的效果。