一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉
授权
摘要
本实用新型属于真空炉设备技术领域，具体地说是一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉。包括电控系统、炉壳、加热室、真空系统及多组发热组件，其中加热室设置于炉壳内，多组发热组件设置于加热室内，并且与电控系统连接，真空系统与炉壳连接，用于对炉壳内进行抽真空，电控系统用于控制真空系统及多组发热组件。本实用新型整个工作过程安全性好，操作简单，产品质量好，成品率高，设备整体寿命长，易维修，生产温度阈值上限高。
基本信息
专利标题 ：
一种用于反应烧结碳化硅制品的真空炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020117395.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-19
授权号 ：
CN211903701U
授权日 ：
2020-11-10
发明人 ：
程革吴振磊孔德惠吴冰张天龙于洪斌刘鹏程陶崇浩李天华赵嘉明韩凤何晓棠
申请人 ：
沈阳沈真真空技术有限责任公司
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市苏家屯区清州街66-1号苏南工业园园区内D区6-1、6-2号
代理机构 ：
沈阳科苑专利商标代理有限公司
代理人 ：
何丽英
优先权 ：
CN202020117395.4
主分类号 ：
F27B5/05
IPC分类号 ：
F27B5/05 F27B5/06 F27B5/14 F27B5/18
IPC结构图谱
F
F部——机械工程；照明；加热；武器；爆破
F27
炉；窑；烘烤炉；蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉；开式烧结设备或类似设备
F27B5/00
马弗炉；干馏炉；其他炉料完全隔绝的炉
F27B5/04
适用于在真空中或特殊气氛中处理炉料的
F27B5/05
在真空中
法律状态
2020-11-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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