一种取晶辅助机构
授权
摘要
本申请公开了一种取晶辅助机构，该取晶辅助机构包括底座；底盘，底盘与底座构成真空吸附腔的至少一部分，底盘具有若干连通真空吸附腔和外界的气孔，用于放置承载有晶片的蓝膜。通过采用增加真空吸附腔的方式，可以减小待取晶片与蓝膜之间的黏着力，从而使得从蓝膜上拾取晶片更加方便，并且该取晶辅助机构即取即用，且成本较低，结构简单，操作方便。
基本信息
专利标题 ：
一种取晶辅助机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020125060.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-19
授权号 ：
CN211150525U
授权日 ：
2020-07-31
发明人 ：
赵楚中王泰山
申请人 ：
深圳瑞波光电子有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区西丽镇茶光路1089号深圳集成电路设计应用产业园404
代理机构 ：
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
黎坚怡
优先权 ：
CN202020125060.7
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/683
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-07-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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