一种用于射线剂量测量的探测器矩阵装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于射线剂量测量的探测器矩阵装置，包括设置有多个电离室的电离室板和对称设置在所述电离室板两侧的上盖板和下盖板；所述电离室的中心到所述上盖板远离所述电离室板的一面的等效水厚度，与所述电离室的中心到所述下盖板远离所述电离室板的一面的等效水厚度相同。本实用新型通过对称设计，使得电离室中心至上下盖板的等效水厚度保持一致，从而得到正反面一致的建成区，在加速器360度环绕照射下，能够得到有效真实的数据，并不需要通过外部装置或数据拟合得到反面照射数据，同时采用电离室探测器替代半导体探测器，使其解决半导体探测器长期稳定性差的问题，保证剂量测量的准确性。
基本信息
专利标题 ：
一种用于射线剂量测量的探测器矩阵装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020137018.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-19
授权号 ：
CN211698222U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
陈立新胡强雷强黄欠平何波
申请人 ：
广州瑞多思医疗科技有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市黄埔区科学大道33号自编五栋401（部位：401、403、405、407房）
代理机构 ：
广州新诺专利商标事务所有限公司
代理人 ：
李小林
优先权 ：
CN202020137018.7
主分类号 ：
G01T1/185
IPC分类号 ：
G01T1/185 G01T1/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01T
核辐射或X射线辐射的测量
G01T1/00
X射线辐射、γ射线辐射、微粒子辐射或宇宙线辐射的测量
G01T1/16
辐射强度测量
G01T1/185
用电离室装置
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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