一种用于激光熔覆的送粉嘴
授权
摘要
本实用新型提供了一种用于激光熔覆的送粉嘴，解决现有激光熔覆采用预置送粉填料方式，存在粉末利用率低、工件表面易出现砂眼的问题。该送粉嘴包括送粉嘴本体和冷却系统；送粉嘴本体前端面设置进粉口，后端面设置有出粉口；出粉口的截面形状为矩形；送粉嘴本体内部设有送粉通道，送粉通道包括从前至后依次连通的第一通道和第二通道，定义送粉嘴本体的延伸方向为水平方向，第一通道沿水平方向设置，第二通道向下倾斜设置；第一通道中心线与第二通道中心线间的夹角为110°～130°；第一通道的前端与进粉口相连；第二通道的后端与出粉口相连，且第二通道的截面为与出粉口截面形状、大小相同的矩形；冷却系统设置在送粉嘴本体上，用于对送粉嘴本体冷却。
基本信息
专利标题 ：
一种用于激光熔覆的送粉嘴
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020143135.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-22
授权号 ：
CN211713202U
授权日 ：
2020-10-20
发明人 ：
王晓飚张国超汤波朱涛李欣杨英滔杜超飞郭晓军王鹏
申请人 ：
西安必盛激光科技有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市高新区新型工业园信息大道17号11号楼东205室
代理机构 ：
西安智邦专利商标代理有限公司
代理人 ：
董娜
优先权 ：
CN202020143135.4
主分类号 ：
C23C24/10
IPC分类号 ：
C23C24/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C24/00
自无机粉末起始的镀覆（熔融态覆层材料的喷镀入C23C4/00；固渗入C23C8/00-C23C12/00
C23C24/08
加热法或加压加热法的
C23C24/10
覆层中临时形成液相的
法律状态
2020-10-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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