一种单层辐照箱
授权
摘要
本实用新型提供一种单层辐照箱，包括箱体本体，箱体本体的前端、左端、右端的边框上都设置有滑轨，使得前箱板、左箱板、右箱板都能够向上提升至脱离箱体本体；所述前箱板上端设置有向前凸出的凸板，左箱板、右箱板的上端通过连接板进行固定连接，箱体本体的底板向左以及向右凸出。所述单层辐照箱可以设计成多个高度型号，以承载不同高度的物料，实现多元化，同时装载物箱方便，卸料简单，操作容易，清理便捷迅速，适应于辐照处理。
基本信息
专利标题 ：
一种单层辐照箱
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020145920.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-22
授权号 ：
CN211699746U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
吴金贺鲍矛谷凤丹燕瑾荣娜王连栋金滟
申请人 ：
北京鸿仪四方辐射技术股份有限公司
申请人地址 ：
北京市通州区工业开发区广利街18号
代理机构 ：
北京高文律师事务所
代理人 ：
徐江华
优先权 ：
CN202020145920.3
主分类号 ：
G21K5/00
IPC分类号 ：
G21K5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜
G21K5/00
照射装置
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
