无立柱的基坑支护结构

授权

摘要

本实用新型涉及一种无立柱的基坑支护结构，包括：设置于待开挖基坑的区域周围的围护结构；沿该基坑的开挖深度依次设置的至少两道水平支撑，该水平支撑水平地支撑于围护结构之间，且靠近基坑底部的水平支撑位于待施工的地下结构的上方；间隔设置且竖直连接于相邻两道水平支撑之间的竖梁；以及倾斜地连接于相邻的两道水平支撑之间且与竖梁固定连接的若干斜撑。本实用新型有效的解决了立柱的存在影响基坑开挖及地下结构施工的问题，利用无立柱的支护结构，在对基坑支护的同时，避免对基坑开挖及后期地下结构施工的影响，减少漏水隐患，保证施工质量。

基本信息

专利标题：

无立柱的基坑支护结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020174902.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-02-17

授权号：

CN212001142U

授权日：

2020-11-24

发明人：

韩磊孙旻冉岸绿方兴杰

申请人：

中国建筑第八工程局有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区世纪大道1568号27层

代理机构：

上海唯源专利代理有限公司

代理人：

宋小光

优先权：

CN202020174902.8

主分类号：

E02D17/04

IPC分类号：

E02D17/04