基于障壁阵列的一维集成成像3D显示装置
授权
摘要
本实用新型公开了基于障壁阵列的一维集成成像3D显示装置，包括显示屏，障壁阵列和渐变孔径狭缝光栅；障壁阵列位于显示屏和渐变孔径狭缝光栅之间，且垂直于显示屏和渐变孔径狭缝光栅；位于渐变孔径狭缝光栅中心的连续多个狭缝的孔径宽度相同；障壁阵列包括多个与显示屏和渐变孔径狭缝光栅垂直设置的障壁，用于分隔相邻的图像元及其对应的狭缝，每个图像元发出的光线只能通过与其对应的狭缝成像。
基本信息
专利标题 ：
基于障壁阵列的一维集成成像3D显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020183399.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-19
授权号 ：
CN211180441U
授权日 ：
2020-08-04
发明人 ：
吴非樊为
申请人 ：
成都工业学院
申请人地址 ：
四川省成都市花牌坊街2号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020183399.2
主分类号 ：
G02B30/32
IPC分类号 ：
G02B30/32
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B30/32
以视差屏障的几何形状为特征的，例如交错屏障、倾斜的视差阵列或者具有变化形状或尺寸的视差阵列
法律状态
2020-08-04 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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