一种适用于较差地质条件下偏压进洞的结构
授权
摘要
本实用新型涉及一种适用于较差地质条件下偏压进洞的反压回填施工结构，当洞口段为围岩较破碎的Ⅴ级洞口、不满足“半明半暗”进洞的条件时，结合现有地势进行“人造地形”，在偏压侧施作正面及侧面挡墙，对正面挡墙及侧面挡墙内侧进行水泥土回填并碾压，以满足进洞条件。采用本实用新型的结构，可解决傍山偏压、局部漏空的隧道进洞难题，同时可以减少浅埋偏压地段边、仰坡开挖高度，减少对山体的干扰和破坏，避免汛期施工造成的水土流失，减少了开挖对周边环境影响小，充分体现了人与自然和谐发展的理念。本实用新型可以实现安全进洞，对保证项目整体建成有重要作用，具有一定的推广和实用价值。
基本信息
专利标题 ：
一种适用于较差地质条件下偏压进洞的结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020209356.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-25
授权号 ：
CN214091881U
授权日 ：
2021-08-31
发明人 ：
张程凯胡建华闫自海童育聪尤鸿波叶卡尔李师陈子健
申请人 ：
中国电建集团华东勘测设计研究院有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市潮王路22号
代理机构 ：
浙江杭州金通专利事务所有限公司
代理人 ：
刘晓春
优先权 ：
CN202020209356.7
主分类号 ：
E21D9/14
IPC分类号 ：
E21D9/14 E21D11/00 E21D11/10 E21D11/18 E02D17/18 E02D29/02
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E21
土层或岩石的钻进；采矿
E21D
竖井；隧道；平硐；地下室
E21D9/00
衬砌或不衬砌的隧道或平硐；其掘进的方法或设备；隧道、平硐的设计布置
E21D9/14
隧道或平硐的设计布置；其他类目不包括的隧道或平硐的结构特征，例如，洞口、隧道口的日光减弱
法律状态
2021-08-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
