多功能纳米真空蒸发源
授权
摘要
本实用新型公开了一种多功能纳米真空蒸发源，其包括坩埚、加热单元和冷却套。加热单元包括套设于坩埚外侧面的加热套体、电加热管、限位块和限位弹簧。本实用新型的坩埚采用热解氮化硼材质制备。在加热套体内壁的外表面设置有多个向加热套体的中轴线凹陷的容纳槽，在每个容纳槽中分别设置有一个电加热管。冷却套体设置在加热套体的外部，在冷却套体的上端设置有冷媒入口，在冷却套体的下端设置有冷媒出口。本实用新型多功能纳米真空蒸发源能够同时满足对金属材料和有机材料的蒸镀需求，其具有更高的加热效率，并能在需要的时候对蒸发源进行降温，确保其正常工作。
基本信息
专利标题 ：
多功能纳米真空蒸发源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020211269.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-25
授权号 ：
CN211689207U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
王宁
申请人 ：
苏州泓沵达仪器科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区太平街道金澄路88-1号8209室
代理机构 ：
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
许云峰
优先权 ：
CN202020211269.5
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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