一种用于复合板双层纳米纹理加工的压印设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于复合板双层纳米纹理加工的压印设备，包括膜材料，所述膜材料的一端绕圈在放卷辊，所述放卷辊的上方设有膜材料清洁辊，且膜材料清洁辊与放卷辊上的膜材料接触，所述膜材料的另一端绕圈在收卷辊上，所述膜材料位于放卷辊和收卷辊之间位置铺设在玻璃上，所述玻璃一侧设有压印结构，所述压印结构的斜上方设有模具清洁辊，所述压印结构下方设有挤压板，所述挤压板的底端连接液压杆，本实用新型通过在压印结构的一侧设置模具清洁辊，并在模具清洁辊上设置清洁胶，同时膜材料清洁辊随着压印结构的转动而转动，利用膜材料清洁辊上的清洁胶将压印后模具筒凹槽内的残留剔除，避免模具筒凹槽内的树脂残留物影响后续的印压效果。
基本信息
专利标题 ：
一种用于复合板双层纳米纹理加工的压印设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020219386.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-27
授权号 ：
CN211375313U
授权日 ：
2020-08-28
发明人 ：
葛秀彬李元
申请人 ：
深圳市锦瑞新材料股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明新区公明下村社区第三工业区12号厂房
代理机构 ：
深圳市凯卓盛世知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
曹明兰
优先权 ：
CN202020219386.6
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2020-08-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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