一种蒙药制剂加工渗滤器
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种蒙药制剂加工渗滤器,涉及蒙药制剂技术领域,包括底座,所述底座的上端设置有箱体,且底座的下表面开设有凹槽,所述凹槽的内部固定安装有固定移动组件,所述箱体的顶端设置有进料口,且箱体的内部设置有第一渗滤腔。本实用新型结构科学合理,操作方便,通过设置的固定移动组件,便于进行渗滤器的移动及固定工作,通过设置的第一渗滤腔和第二渗滤腔,能够实现蒙药制剂的两次渗滤处理,且第一渗滤板设置为阶梯形结构,能够延长蒙药制剂在第一渗滤板表面停留的时间,提高制剂的渗滤效果,通过设置的循环送料组件,能够对渗滤后的制剂进行再次渗滤处理,进一步提高制剂的渗滤效果。
基本信息
专利标题 :
一种蒙药制剂加工渗滤器
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020247425.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-04
授权号 :
CN211752934U
授权日 :
2020-10-27
发明人 :
包立道
申请人 :
包立道
申请人地址 :
内蒙古自治区呼和浩特市回民区通道北街1号
代理机构 :
北京维知知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
刘青宜
优先权 :
CN202020247425.3
主分类号 :
B01D29/50
IPC分类号 :
B01D29/50 B01D29/56 B01D29/03 A61J3/00
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D29/00
不包括在组B01D24/00至B01D27/00中的过滤期间过滤元件不动的过滤器,例如压滤器或吸滤器;其过滤元件
B01D29/50
带有以相互布置为特征的多个过滤元件的
法律状态
2022-02-22 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : B01D 29/50
申请日 : 20200304
授权公告日 : 20201027
终止日期 : 20210304
申请日 : 20200304
授权公告日 : 20201027
终止日期 : 20210304
2020-10-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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