一种用于不同宽度取向硅钢离子氮化装置的真空保持结构
授权
摘要
本实用新型提供一种应用于冶金领域的用于不同宽度取向硅钢离子氮化装置的真空保持结构，所述的用于不同宽度取向硅钢离子氮化装置的真空保持结构的渗氮装置壳体(1)上设置开口部(2)，开口部(2)内安装导电密封辊(3)和非接触密封辊(4)，导电密封辊(3)和非接触密封辊(4)之间形成取向硅钢处理腔体(5)，开口部(2)内还安装调宽密封辊(12)，调宽密封辊(12)一侧安装在开口部(2)侧面，调宽密封辊(12)另一侧设置喷嘴(14)，本实用新型的取向硅钢渗氮装置用真空控制结构，能够方便快捷实现不同宽度的待处理取向电工钢在渗氮前可靠实现清理、活化，取向硅钢处理腔体密封性好，满足后续渗氮处理需求，确保渗氮质量稳定。
基本信息
专利标题 ：
一种用于不同宽度取向硅钢离子氮化装置的真空保持结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020256659.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-05
授权号 ：
CN212102986U
授权日 ：
2020-12-08
发明人 ：
夏雪兰裴英豪朱涛胡柯武战军施立发祁旋张振海
申请人 ：
马鞍山钢铁股份有限公司
申请人地址 ：
安徽省马鞍山市雨山区九华西路8号
代理机构 ：
芜湖安汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
蒋兵魁
优先权 ：
CN202020256659.4
主分类号 ：
C23C8/38
IPC分类号 ：
C23C8/38 C23C8/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C8/00
金属材料表面中仅渗入非金属元素的固渗；材料表面与一种活性气体反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理法，例如转化层、金属的钝化
C23C8/06
使用气体的
C23C8/36
使用电离气体的，例如离子氮化
C23C8/38
黑色金属表面的处理
法律状态
2020-12-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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