一种多目标共轭成像分划结构
授权
摘要
一种多目标共轭成像分划结构,涉及大型机械结构形变的监控测量领域,为解决现有形变检测所用分划装置,存在分划结构复杂,容易受环境温度变化影响,不便于观察和进行精准测量等问题,包括前端分划安装板、分划框架、后端分划安装板、稳压电源和多个发光分划板;前端分划安装板和后端分划安装板分别设置在分划框架的前后端且前端分划安装板和后端分划安装板的分划面平行;前端分划安装板为圆形槽结构。将多个发光分划板分别安装在分划结构的前、后两个端面上实现多个目标,多目标成像分划结构简单、可靠性高、受环境变化影响小且经济性较高,在温度变化时接收光学系统因环境温度变化像面位移产生微量变化,也不影响接收多个目标的分划图像。
基本信息
专利标题 :
一种多目标共轭成像分划结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020257060.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-05
授权号 :
CN211402959U
授权日 :
2020-09-01
发明人 :
彭刚李娜米楠孙丽敏张兴迪黄传家
申请人 :
长春师凯科技产业有限责任公司;长春继珩精密光学技术有限公司
申请人地址 :
吉林省长春市高新区火炬路1395号
代理机构 :
北京中理通专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
刘慧宇
优先权 :
CN202020257060.2
主分类号 :
G02B27/34
IPC分类号 :
G02B27/34 G01B11/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/32
在光学系统内的基准标记和测量度盘
G02B27/34
光照的
法律状态
2020-09-01 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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