一种双层覆盖全地下式污水厂布置结构
授权
摘要

本实用新型公开了一种双层覆盖全地下式污水厂布置结构,包括埋藏在地面以下的框体,所述框体上端面露出地表,露出地表的部分可以用作停车场、公园或者其他地面生活场所,所述框体内部设有用于处理污水的净化部件,所述净化部件至少包括一个紫外消毒池,所述紫外消毒池所在的框体上端面穿设有一个支撑筒,支撑筒下端口延伸至紫外消毒池上端口处,所述支撑筒内壁涂覆有反光层,所述支撑筒上端上方设有锥形斗,锥形斗上端口设有用于将太阳光聚集的聚光镜,本实用新型针对现有装置的弊端进行设计,将光线汇集,增加光辐射程度,利用增强后的光线进行消毒杀菌,从而保证了杀菌效果,降低了污水处理成本,还可以防止灰尘沉积对光线的影响,实用性强。

基本信息
专利标题 :
一种双层覆盖全地下式污水厂布置结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020257495.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-05
授权号 :
CN211896456U
授权日 :
2020-11-10
发明人 :
刘小俊高延泽邓仕军陈玖陆王建明王波周从松
申请人 :
中建地下空间有限公司
申请人地址 :
四川省成都市青羊区宽窄巷子8号
代理机构 :
成都正华专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
李蕊
优先权 :
CN202020257495.7
主分类号 :
C02F9/08
IPC分类号 :
C02F9/08  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F9/00
水、废水或污水的多级处理
C02F9/08
至少有一个物理处理步骤
法律状态
2020-11-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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