一种新型双腔盖体
授权
摘要
本实用新型涉及一种新型双腔盖体，包括底座机构和上盖，所述底座机构两侧均安装有铰链机构，所述两个铰链机构上均安装有上盖，所述上盖上端面上安装有把手；所述上盖内壁上安装有样品架；所述样品架包括多个连接件、上样品盘和下样品盘，所述连接件一端固定安装在上盖内壁上的固定端，另一端固定在上样品盘上，所述上样品盘与下样品盘间通过固定件固定连接，所述上样品盘上设置有挡圈，所述挡圈上开设有多个凹槽，所述凹槽对应的上样品盘边缘处开设有样品固定孔。本实用新型采用双上盖的设计，能够在同样的时间内对更多的硅片进行镀膜工序，节约了时间成本；本实用新型采用悬挂式样品架的设计，能够使得硅片受热更加均匀，镀膜更加完整。
基本信息
专利标题 ：
一种新型双腔盖体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020269631.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-07
授权号 ：
CN211497786U
授权日 ：
2020-09-15
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
江苏迈纳德微纳技术有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市新吴区菱湖大道228号天安智慧城3-104
代理机构 ：
无锡市才标专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
田波
优先权 ：
CN202020269631.4
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2020-09-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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