烤箱控制系统及烤箱
授权
摘要
本实用新型公开一种烤箱控制系统，包括氮气输送装置、含氧量监控仪、温度采集装置、加热装置、计时器及控制装置，氮气输送装置用于输送氮气至烤箱腔体内，含氧量监控仪用于监控烤箱腔体内的含氧量，控制装置于含氧量下降至预设含氧值时控制加热装置开始加热，温度采集装置用于采集烤箱腔体内的温度信息，控制装置于烤箱腔体内的温度达到预设烘烤温度时控制计时器开始计算加热时长，并于加热时长达到预设烘烤时长时控制加热装置停止加热。本实用新型自动化程度高，实现了实时监控烤箱腔体内的烘烤温度、烘烤时长及含氧量，整个高温烘烤测试过程中无需人工监控。另，本实用新型还公开一种具有上述烤箱控制系统的烤箱。
基本信息
专利标题 ：
烤箱控制系统及烤箱
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020285320.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-10
授权号 ：
CN211507577U
授权日 ：
2020-09-15
发明人 ：
曾梓鑫邱振中文亚东覃尚坛
申请人 ：
上海利扬创芯片测试有限公司
申请人地址 ：
上海市嘉定区永盛路2229号3幢1层、2层
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
张艳美
优先权 ：
CN202020285320.7
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/66
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-09-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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