降噪室、气溶胶采样装置及辐射环境监测站
授权
摘要

本实用新型涉及一种降噪室、气溶胶采样装置及辐射环境监测站。该降噪室具有顶壁、底壁及连接顶壁和底壁的侧壁,顶壁、底壁和侧壁形成容纳气溶胶采样装置的采样电机的容纳腔,且顶壁、底壁和侧壁为吸音材料制作的结构件,其中,侧壁包括固定部和与固定部可开合设置的门体,门体上设置有开口和容纳于开口的附加装置,附加装置设置有由层叠设置的至少两个板件形成的吸音腔室。该降噪室可以有效降低气溶胶采样装置的采样电机在采样过程中产生的噪音。

基本信息
专利标题 :
降噪室、气溶胶采样装置及辐射环境监测站
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020308605.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-13
授权号 :
CN212110797U
授权日 :
2020-12-08
发明人 :
董伟王海鹏黄耿诚孔杜娟李宏宇全葳贺宇吴涛邹文华
申请人 :
同方威视技术股份有限公司
申请人地址 :
北京市海淀区双清路同方大厦A座2层
代理机构 :
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人 :
刘敏
优先权 :
CN202020308605.8
主分类号 :
G01N1/22
IPC分类号 :
G01N1/22  G01N33/00  G01T1/167  G10K11/16  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N1/00
取样;制备测试用的样品
G01N1/02
取样装置
G01N1/22
气体的
法律状态
2020-12-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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