一种防伪烫印膜
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摘要

本实用新型公开了一种防伪烫印膜,其包括依次层叠设置的基膜层、离型层、信息层、镀层和胶层。所述信息层在远离所述离型层的一侧具有微纳结构,所述镀层仿形设置在所述信息层具有所述微纳结构的一侧上。所述微纳结构包括若干结构单元,若干所述结构单元呈阵列交错排布,所述结构单元包括若干个依次并行且间隔排布的微纳图形,在同一所述结构单元中,各所述微纳图形按照从中间向两边逐渐变短的规律排布,在所述微纳结构中,各个所述微纳图形互不接触,所述微纳图形的纵横比大于1,所述微纳图形包括凸起结构和/或凹槽结构。本实用新型的一种防伪烫印膜在无光源照射时不呈现特殊光效,在光源照射条件下呈现特殊光效,可以有效进行防伪鉴别。

基本信息
专利标题 :
一种防伪烫印膜
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020313306.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-13
授权号 :
CN212920874U
授权日 :
2021-04-09
发明人 :
朱昊枢叶瑞孙营春左志成蔡文静陈蓓蓓陈林森朱志坚
申请人 :
苏州苏大维格科技集团股份有限公司;江苏维格新材料科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区新昌路68号
代理机构 :
苏州简理知识产权代理有限公司
代理人 :
杨瑞玲
优先权 :
CN202020313306.3
主分类号 :
B41M5/42
IPC分类号 :
B41M5/42  B41M5/025  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B41
印刷;排版机;打字机;模印机
B41M
印刷、复制、标记或拷贝工艺;彩色印刷
B41M5/00
复制或标记方法;供其使用的单张材料
B41M5/26
热压凸印法
B41M5/40
以底层、中间层或表层为特征;渗透或吸收热、辐射的方法或涂层;与涂层或合成物相结合以适合于其他的图像配准方法;用于通过热凸印法进行复制的特殊原稿
B41M5/42
中间层或覆盖层
法律状态
2021-04-09 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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