一种足弓按摩装置
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摘要
一种足弓按摩装置，在盆体上设置有盛水的泡脚区和供使用者坐着并将小腿和脚自然伸入泡脚区内的坐台，泡脚区的底部中心具有矩形凹陷，从而在矩形凹陷的两侧形成分别将脚跟和脚趾支起的脚跟接触区和脚趾接触区，进而将足弓担在矩形凹陷顶部；矩形凹陷内设置有足弓按摩辊，且足弓按摩辊由水平往复机构带动其在矩形凹陷内水平往复运动，并在运动过程中，对足弓进行按摩。本实用新型的足弓按摩装置能够使足弓悬空在矩形凹陷上方，这样水平往复机构带动的足弓按摩辊在水平往复机构运动时，能够对足弓部位进行反复刮擦按摩，相比较于现有的脚踩式按摩盆，不仅使用方便，而且按摩效果也更好。
基本信息
专利标题 ：
一种足弓按摩装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020325951.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-16
授权号 ：
CN212522399U
授权日 ：
2021-02-12
发明人 ：
李兵旗
申请人 ：
李兵旗
申请人地址 ：
河南省洛阳市洛龙区李村镇偏桥村10组
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020325951.7
主分类号 ：
A61H35/00
IPC分类号 ：
A61H35/00 A61H15/00 A61H7/00 A61H39/04
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61H
理疗装置，例如用于寻找或刺激体内反射点的装置；人工呼吸；按摩；用于特殊治疗或保健目的或人体特殊部位的洗浴装置
A61H35/00
身体特殊部位洗浴器，例如胸部冲洗
法律状态
2021-02-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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