地下交通枢纽结构

授权

摘要

本实用新型适用于地下工程技术领域，提供了一种地下交通枢纽结构，包括本体，修筑在土体内部；第一空间层，形成在所述本体内，用于供交通工具通行；第二空间层，形成在所述本体内，并位于所述第一空间层的下方，用于供乘客通行；连通结构，设置在所述第一空间层和所述第二空间层之间，用于连通所述第一空间层和所述第二空间层；其中，所述第一空间层包括用于供汽车通行的第一通道和用于供地铁通行的第二通道。在本实用新型中，通过将第一通道和第二通道合建在同一层，不仅能够满足通行需求，还能够有效降低整个工程的埋深，使工程的施工难度得到降低，缩减了工程规模，也节约了工程的投资。

基本信息

专利标题：

地下交通枢纽结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020326749.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-03-16

授权号：

CN215483091U

授权日：

2022-01-11

发明人：

文鹏张扬范宏宇周兵黄鹏李建军

申请人：

中铁第四勘察设计院集团有限公司

申请人地址：

湖北省武汉市武昌杨园和平大道745号

代理机构：

北京派特恩知识产权代理有限公司

代理人：

李路遥

优先权：

CN202020326749.6

主分类号：

E02D29/045

IPC分类号：

E02D29/045