一种六甲基二硅氧烷生产用的纯化装置
授权
摘要

本实用新型涉及化工纯化技术领域,且公开了一种六甲基二硅氧烷生产用的纯化装置,包括反应釜,所述反应釜的顶部固定安装有降温器,所述降温器的顶部固定安装有联轴器,所述联轴器的顶部固定安装有电机,所述联轴器的底部且位于降温器的内部并延伸至反应釜的腔体活动安装有转轴,所述转轴的底部固定安装有搅拌器。该六甲基二硅氧烷生产用的纯化装置,通过设置阀门、低温块和加热丝,关闭阀门和投料口盖,可以使反应釜形成密闭空间,加热丝加热反应釜内反应物充分反应,反应釜腔内达到一定温度后控制加热丝保持腔内温度,由液体变成蒸汽上漂遇到低温块再变成液体下落,完成回流过程,实现了回流过程设置在反应釜内部。

基本信息
专利标题 :
一种六甲基二硅氧烷生产用的纯化装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020338139.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-17
授权号 :
CN213266346U
授权日 :
2021-05-25
发明人 :
何鸿杰
申请人 :
吉安永翔硅业新材料有限公司
申请人地址 :
江西省吉安市新干县盐化工业园区
代理机构 :
南昌迈恩知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
徐克寒
优先权 :
CN202020338139.8
主分类号 :
C07F7/08
IPC分类号 :
C07F7/08  C07F7/20  B01J19/18  B01J19/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C07
有机化学
C07F
含除碳、氢、卤素、氧、氮、硫、硒或碲以外的其他元素的无环,碳环或杂环化合物
C07F7/00
含周期表第4或14族元素的化合物
C07F7/02
硅化合物
C07F7/08
具有1个或更多的C-Si键的化合物
法律状态
2021-05-25 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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