一种用于二次供水的免清洗UV杀菌装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种用于二次供水的免清洗UV杀菌装置，包括壳体，所述壳体内部设置有紊流发生器和杀菌组件，所述紊流发生器与壳体连接，且设置在杀菌组件的一端。通过加入紊流发生器，使流经UV杀菌装置的水流产生紊流。紊流有利于水中杂质的搬运，使其不沉或者较难沉积在石英套管上，进而实现了UV杀菌装置的免清洗。
基本信息
专利标题 ：
一种用于二次供水的免清洗UV杀菌装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020344581.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-18
授权号 ：
CN212292897U
授权日 ：
2021-01-05
发明人 ：
王来文张仁清
申请人 ：
无锡诚源环境科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市梁溪区江海西路会西段87
代理机构 ：
上海塔科专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
耿恩华
优先权 ：
CN202020344581.1
主分类号 ：
C02F1/32
IPC分类号 ：
C02F1/32
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先）
C02F1/30
辐射法
C02F1/32
用紫外线的
法律状态
2021-01-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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