一种用于中下均压的高制氮效率PSA制氮装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于中下均压的高制氮效率PSA制氮装置，包括吸附塔和设置在吸附塔外侧底部的用于产生梯度磁场的磁场发生装置，吸附塔底部设有进气口，进气口上方位于梯度磁场内的部分填充有惰性瓷球层，惰性瓷球层上方设有设置在分子筛支撑装置上方的碳分子筛层，碳分子筛层的中部设有一端与吸附塔外连通的中部均压管，吸附塔顶部设有进料口，进料口内设有填料缸，填料缸内设有压紧气缸，吸附塔内在进料口四周设有一圈弧形孔板网，弧形孔板网和中部均压管之间设有出气管，出气管一端与弧形孔板网下侧连接，另一端与吸附塔外连通。本实用新型通过梯度磁场减小氮气吸附量，提高了制氮效率；通过中部均压管实现中下均压，提高了制氮纯度。
基本信息
专利标题 ：
一种用于中下均压的高制氮效率PSA制氮装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020357988.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-19
授权号 ：
CN212050539U
授权日 ：
2020-12-01
发明人 ：
侯秋华蒋建荣何彦甫冯成方
申请人 ：
杭州天利空分设备制造有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市富阳区经济开发区场口新区
代理机构 ：
杭州杭诚专利事务所有限公司
代理人 ：
尉伟敏
优先权 ：
CN202020357988.8
主分类号 ：
C01B21/04
IPC分类号 ：
C01B21/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素；其化合物
C01B21/00
氮；其化合物
C01B21/04
氮的净化或分离
法律状态
2020-12-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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