清洗装置
授权
摘要
本申请公开了一种清洗装置，用于对半导体设备中的待清洗对象进行清洗。该清洗装置包括腔体、第一工艺槽、第二工艺槽、第三工艺槽、第一上料位、第二上料位、第一取料件和取料件，其中：第一上料位和第二上料位分别设置于腔体相对的侧壁上；第一工艺槽、第二工艺槽和第三工艺槽置于腔体内，依次布置在第一上料位和第二上料位之间；第一取料件用于在第一上料位、第一工艺槽和第二工艺槽间搬运待清洗对象，第二取料件用于在第二工艺槽、第三工艺槽和第二上料位间搬运待清洗对象。采用本申请所公开的方案，能极大提升清洗效率，尤其适用于对石英管和石英舟进行清洗。
基本信息
专利标题 ：
清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020362014.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-20
授权号 ：
CN212418875U
授权日 ：
2021-01-29
发明人 ：
李广义张洪蛟
申请人 ：
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号
代理机构 ：
北京思创毕升专利事务所
代理人 ：
孙向民
优先权 ：
CN202020362014.9
主分类号 ：
B08B3/04
IPC分类号 ：
B08B3/04 B08B3/08 B08B9/02 B08B13/00 B08B15/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
法律状态
2021-01-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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