一种能提升下水管道窨井井口的井盖
授权
摘要
本实用新型涉及一种能提升下水管道窨井井口的井盖，包括井盖和井盖底座两部分组成，井盖扣装在井盖底座。井盖底座由井盖口、基座、围墙、固定侧翼组成，围墙为圆筒形状，墙体厚度在5‑10厘米，围墙上口为井盖口，井盖口设有外折沿。围墙下端口与基座连成一体，基座呈圆形，基座表面与围墙壁垂直，环绕围墙外延宽度15‑20厘米。在基座上面，围墙外围，均匀分布4个垂直于基座和围墙外壁的三角形固定侧翼，固定侧翼与基座、围墙制成一体。井盖底座高度为工程改造后路面增高的厚度，围墙的圆筒内径与原窨井内径相同。井盖底座由硬质橡胶或铸钢浇铸而成，上述参数为硬质橡胶铸造参数，铸铁铸造各件厚度均为2厘米。本实用新型结实耐用，保持路面平。
基本信息
专利标题 ：
一种能提升下水管道窨井井口的井盖
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020401975.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-26
授权号 ：
CN212052884U
授权日 ：
2020-12-01
发明人 ：
胡子强崔行航
申请人 ：
胡子强
申请人地址 ：
山东省聊城市东昌府区振兴西路4号3号楼6单元402室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020401975.6
主分类号 ：
E02D29/14
IPC分类号 ：
E02D29/14
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D29/00
地下或水下结构物；挡土墙
E02D29/12
人孔井；其他检查室或人可进入的室；其附属物
E02D29/14
人孔或类似物的盖；盖的框架
法律状态
2020-12-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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