水性逆向印底结构

授权

摘要

本实用新型公开了水性逆向印底结构，由下至上依次包括承印物本体、油墨层、逆向底油层和面油层；逆向底油层包括印水界面和印油界面，印水界面和印油界面等间距交错分布；印油界面由若干最小单位的印油界面单体组成。本实用新型印油界面由若干最小单位的印油界面单体组成，只需在印油界面单体胶印逆向底油即可，能够有效控制逆向底油的印刷油量和油层厚度稳定，使得水性逆向表面处理所形成的磨砂凸起颗粒的大小一致且分布均匀，外观平整度高。

基本信息

专利标题：

水性逆向印底结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020457898.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-04-01

授权号：

CN212446898U

授权日：

2021-02-02

发明人：

刘宇东

申请人：

宁波良源包装科技有限公司

申请人地址：

浙江省宁波市杭州湾新区滨海二路62号

代理机构：

苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

张荣

优先权：

CN202020457898.6

主分类号：

B44C1/165

IPC分类号：

B44C1/165