一种光电子器件生产用原材料清洗除污装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种光电子器件生产用原材料清洗除污装置,涉及光电子器件技术领域。该光电子器件生产用原材料清洗除污装置,包括清洗箱,所述清洗箱的内部固定安装有分隔桶,所述分隔桶为橄榄型并且只可通过液体和气体,所述清洗箱的一侧外表面固定安装有驱动电机,所述清洗箱的一侧内壁转动安装有连接杆,所述驱动电机的输出轴通过联轴器穿过清洗箱并与连接杆固定连接。该装置可以有效的去除掉原材料表面的污垢,并且为全部自动清洗,大大的增加了工作的速度与效率,提高了方便性,可以对清洗完的原材料进行烘干,有效的增加了工作效率,间接性提高了原材料生产过程中的产品质量。

基本信息
专利标题 :
一种光电子器件生产用原材料清洗除污装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020464614.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-02
授权号 :
CN212384171U
授权日 :
2021-01-22
发明人 :
王杰平唐梦珂宋家翰熊明存
申请人 :
衢州学院
申请人地址 :
浙江省衢州市九华北大道78号
代理机构 :
成都华复知识产权代理有限公司
代理人 :
王洪霞
优先权 :
CN202020464614.6
主分类号 :
B08B3/08
IPC分类号 :
B08B3/08  B08B13/00  B08B1/04  F26B21/00  F26B23/06  F26B25/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/08
具有化学作用或溶解作用的液体
法律状态
2021-01-22 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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