一种大培养皿常压低温等离子体处理装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种大培养皿常压低温等离子体处理装置，包括箱体，箱体的底部内壁上固定设置有低温等离子体电极基台，低温等离子体电极基台的顶部外壁上固定设置有支撑板，支撑板的顶端焊接有固定板，通孔的侧壁上固定设置有夹紧弹簧，夹紧弹簧的一端固定连接有夹板，箱体的顶部外壁上焊接有固定架，箱体通过固定架连接有气缸，气缸的输出端固定连接有推拉杆，推拉杆远离气缸的一端固定连接有低温等离子体上电极，箱体的底部外壁上固定安装有连接板，连接板的底部外壁上焊接有活动轴，活动轴的下方设置有固定轴，且活动轴的底端插入固定轴的内部，活动轴的底端焊接有挡块，固定轴的内部设置有内弹簧，活动轴的外壁上套设有外弹簧。
基本信息
专利标题 ：
一种大培养皿常压低温等离子体处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020467728.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-02
授权号 ：
CN212199084U
授权日 ：
2020-12-22
发明人 ：
郑艳高彪沈义信
申请人 ：
苏州思诚者信息科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴江区盛泽镇西二环路1188号6号楼202室
代理机构 ：
苏州智品专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
吕明霞
优先权 ：
CN202020467728.6
主分类号 ：
C08J7/12
IPC分类号 ：
C08J7/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C08
有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物
C08J
加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理
C08J7/056
形成亲水涂层
C08J7/12
化学改性
法律状态
2020-12-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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