适用于易发生水土流失的陡坡的绿化护坡结构
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摘要
本实用新型公开了适用于易发生水土流失的陡坡的绿化护坡结构，绿化护坡结构包括若干个搭建平台，若干个搭建平台沿陡坡的走向均布设置，所述搭建平台主要由锚桩、挡板、植生基材组成，所述锚桩一端设置在陡坡的本体内，另一端与挡板连接，所述挡板的一端插入陡坡的本体中，挡板与陡坡围合形成类斗状容器，植生基材布置在类斗状容器中并形成植物种植平台，所述挡板开设有若干透水孔，且挡板与植生基材接触的一侧表面铺设有土工布。本实用新型绿化护坡结构可在较陡边坡上形成多级平台，为植物生长创造稳定的环境条件，从而快速低成本实现对表面易发生水土流失的较陡边坡的植被恢复和加固，施工过程只需人工或简单机械配合，减少护坡成本。
基本信息
专利标题 ：
适用于易发生水土流失的陡坡的绿化护坡结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020479663.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-03
授权号 ：
CN212001182U
授权日 ：
2020-11-24
发明人 ：
孙熙宁王会云王亚磊张旭东秦勇光李志达王旭冯兴隆闫鼎熠吴坤魏庆喜张正清王必成付忠伟王永然朱登云李阳
申请人 ：
中国有色金属工业昆明勘察设计研究院有限公司;云南迪庆有色金属有限责任公司
申请人地址 ：
云南省昆明市东风东路东风巷1号
代理机构 ：
北京康达联禾知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
郭普堂
优先权 ：
CN202020479663.7
主分类号 ：
E02D17/20
IPC分类号 ：
E02D17/20 E02B3/12 A01G9/02
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/20
边坡或斜坡的稳定
法律状态
2020-11-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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