消毒设备
授权
摘要
本申请涉及激光应用技术领域，尤其是涉及一种消毒设备，消毒设备包括：能量发射装置以及能量发散构件；能量发射装置能够发射能量并辐射以使病原微生物失活；能量发散构件设置于能量发射装置的输出端，用于扩大能量发射装置发出的能量的辐射范围。本申请提供的消毒设备，能够在短时间使需要消毒的目标空间升温，进而实病毒等病原微生物失活，以达到消毒的目的，消毒效果显著，且消毒效率高，短时间内即可完成消毒，避免长时间影响医院病房、电梯等正常使用。
基本信息
专利标题 ：
消毒设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020483790.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-03
授权号 ：
CN212347217U
授权日 ：
2021-01-15
发明人 ：
成学平
申请人 ：
深圳市杰普特光电股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙华区观湖街道鹭湖社区观盛五路5号泰豪科技园泰豪科技301
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
汪喆
优先权 ：
CN202020483790.4
主分类号 ：
A61L2/08
IPC分类号 ：
A61L2/08 A61L2/26 A61L9/18
相关图片
IPC结构图谱
A
A部——人类生活必需
A61
医学或兽医学；卫生学
A61L
材料或消毒的一般方法或装置；空气的灭菌、消毒或除臭；绷带、敷料、吸收垫或外科用品的化学方面；绷带、敷料、吸收垫或外科用品的材料
A61L2/00
食品或接触透镜以外的材料或物体的灭菌或消毒的方法或装置；其附件
A61L2/02
应用物理现象
A61L2/08
辐照
法律状态
2021-01-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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