一种基坑支护系统
授权
摘要
本实用新型涉及一种基坑支护系统，包括预先挖设的不小于基坑规划深度、长度以及宽度的支护防护坑体，所述的支护防护坑体的立面设置有从下斜向上上开设的斜面坡体，在斜面坡体以及支护防护坑体的底部设置有底部防水槽体，在底部防水槽体以及斜面坡体内侧设置有高强度排水支护装置；减少了基坑规划面积之外土壤坍塌的风险，并且采用了斜坡支护板配合斜面坡体的方式实施基坑规划面积范围外的支护作业，减少了按照原规划面积实施支护作业时由于地形地质发生变化导致的支护装置整体内塌陷的危险，适合在特殊地质条件下基坑的构建作业，并适合该特殊地形的基坑支护作业，该特殊地形为土质松软、地质灾害易发生等危险地质地段。
基本信息
专利标题 ：
一种基坑支护系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020490932.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-07
授权号 ：
CN212405161U
授权日 ：
2021-01-26
发明人 ：
李慧刘万万陈红彬
申请人 ：
商丘师范学院
申请人地址 ：
河南省商丘市梁园区平原中路55号
代理机构 ：
郑州意创知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
韩晓莉
优先权 ：
CN202020490932.X
主分类号 ：
E02D17/04
IPC分类号 ：
E02D17/04 E02D19/18
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程；基础；疏浚
E02D
基础；挖方；填方；地下或水下结构物
E02D17/00
挖方；挖方边缘的修砌；填方
E02D17/02
基础坑
E02D17/04
基础坑边缘的修砌或加固
法律状态
2021-01-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
