本实用新型公开了一种陶瓷施釉设备，包括水平回转的回转部，所述回转部包括N组工位，所述N≥3，N组工位下方共布置不少于一组换料部和一组上釉部，每组工位包括两组相对运动的夹持板，两组夹持板的对应位置分别转动设置转轴，所述转轴轴向与两组夹持板的相对运动方向一致，所述换料部包括沿回转部径向水平运动的滑块，所述滑块上方设置能够竖直升降的升降板，所述升降板上方固定设置定位块，当滑块滑动至工位下方时，所述定位块处于该工位的转轴正下方，本陶瓷施釉设备采用回转的工作台，将上料、浸泡和下料分为三个工位，提升加工速度，且在浸泡时，工件处于旋转的状态，有助于回转类工件表面附着均匀，提升表面质量。