烫印膜

授权

摘要

一种烫印膜，包括信息层和镀层，镀层设置在信息层上，信息层包括图像微纳结构和光标微纳结构，镀层包括第一镀层和第二镀层，第一镀层与光标微纳结构相互上下对应设置，第二镀层与图像微纳结构相互上下对应设置，第一镀层为金属反射镀层，第二镀层透明介质镀层。本实用新型的烫印膜能使定位设备易于识别定位光标，定位精准，同时提高生产效率。

基本信息

专利标题：

烫印膜

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020503526.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-04-08

授权号：

CN212148210U

授权日：

2020-12-15

发明人：

朱昊枢叶瑞孙营春左志成陈林森朱志坚

申请人：

苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏大维格（盐城）光电科技有限公司;苏州大学

申请人地址：

江苏省苏州市工业园区新昌路68号

代理机构：

上海波拓知识产权代理有限公司

代理人：

蔡光仟

优先权：

CN202020503526.2

主分类号：

B44C1/165

IPC分类号：

B44C1/165 B32B27/36 B32B7/06 B32B27/06 B32B27/00