投影机光机光学调试平台
授权
摘要
本实用新型公开投影机光机光学调试平台，包含有，箱型底座，其由底座顶壁、底座底壁、底座前壁、底座后壁及底座侧壁组成；光机支撑平台，其形成于所述底座顶壁上，所述光机支撑平台自所述底座顶壁的顶面始向上延伸，所述光机支撑平台的顶面高于所述底座顶壁的顶面，当光机本体置于所述光机支撑平台上，所述光机本体被整体垫高；所述底座顶壁的顶面上竖立有顶壁左板及顶壁右板，所述顶壁左板及所述顶壁右板上分别固定有光机散热风扇，所述光机散热风扇用于散热所述光机本体。本实用新型的有益效果在于：利用光机支撑平台，光机本体整体被抬高，方便进行光机本体的成像，亮度，色温，焦距的测试与调节；设置光机风扇，提高对光机本体的散热。
基本信息
专利标题 ：
投影机光机光学调试平台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020522826.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-10
授权号 ：
CN211478865U
授权日 ：
2020-09-11
发明人 ：
张长春
申请人 ：
中航国画（上海）激光显示科技有限公司
申请人地址 ：
上海市静安区江场三路76、78号309室
代理机构 ：
上海世圆知识产权代理有限公司
代理人 ：
顾俊超
优先权 ：
CN202020522826.5
主分类号 ：
G03B43/00
IPC分类号 ：
G03B43/00 G03B21/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03B
摄影、放映或观看用的装置或设备；利用了光波以外其他波的类似技术的装置或设备；以及有关的附件
G03B43/00
摄影设备及其部件测量的正确操作的试验
法律状态
2020-09-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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