一种UV辐照装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种UV辐照装置，包括辐照组件，包括多个辐照光源以及一用于供颗粒状产品接受辐照的辐照容器，多个所述辐照光源位于所述辐照容器两侧；进料机构，位于所述辐照组件上方并与所述辐照容器连接，用于将产品导入至辐照容器内；出料机构，位于所述辐照组件下方并与所述辐照容器连接，用于收集或导出辐照后的颗粒状产品。与现有技术相比，本实用新型中颗粒状产品经辐照容器上方的进料机构进入所述辐照容器，因辐照容器两侧安装有多个辐照光源，则颗粒状产品经过辐照容器时接受两侧辐照光源的辐照，可提高颗粒状产品的UV辐照固化的良率，且相对比输送带式的辐照装置，本实用新型UV辐照装置的功耗低、体积小，可减少场地占用面积。
基本信息
专利标题 ：
一种UV辐照装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020527347.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-10
授权号 ：
CN212032677U
授权日 ：
2020-11-27
发明人 ：
张炳忠刘新
申请人 ：
深圳市润沃自动化工程有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区石岩街道石龙大道68号B栋2楼
代理机构 ：
深圳市精英专利事务所
代理人 ：
刘贻盛
优先权 ：
CN202020527347.2
主分类号 ：
G21K5/00
IPC分类号 ：
G21K5/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G21
核物理；核工程
G21K
未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜
G21K5/00
照射装置
法律状态
2020-11-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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