一种大型岩溶洼地内回填地基深部落水洞处理结构
授权
摘要

本实用新型公开了一种大型岩溶洼地内回填地基深部落水洞处理结构,该结构包括在落水洞的洞口处通过扩挖可容颜地层形成的楔形槽及设在该楔形槽中的钢筋砼楔形体,在该钢筋砼楔形体中设有一根竖直向上的铸铁管;在钢筋砼楔形体上方铺盖有细砂,在细砂上方充填有地基回填层,在该地基回填层顶部地面上建有地面建筑物,前述的铸铁管上端延伸至地面并与设在地面的排水沟连通,该排水沟两端与设在坡脚的截水沟连通。本实用新型对大型岩溶洼地内的短期强降水可及时排泄,不会造成洼地内涝问题,同时钢筋砼楔形体避免了回填地基内的水土流失问题和地基稳定性问题。通过该处理方法的运用,可以保证大型岩溶洼地内回填地基的稳定性和建筑物的使用安全。

基本信息
专利标题 :
一种大型岩溶洼地内回填地基深部落水洞处理结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020545578.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-04-14
授权号 :
CN212405178U
授权日 :
2021-01-26
发明人 :
刘浩
申请人 :
中国电建集团贵阳勘测设计研究院有限公司;中国水电顾问集团贵阳勘测设计研究院岩土工程有限公司
申请人地址 :
贵州省贵阳市观山湖区兴黔路16号
代理机构 :
贵阳中新专利商标事务所
代理人 :
李余江
优先权 :
CN202020545578.6
主分类号 :
E02D17/18
IPC分类号 :
E02D17/18  E02D15/00  E02D19/08  
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D17/00
挖方;挖方边缘的修砌;填方
E02D17/18
填方
法律状态
2021-01-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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