风幕分散器
授权
摘要
本实用新型涉及一种风幕分散器，其包括壳体，所述壳体设有负压通道、射流口和进气口，射流口设置在负压通道的下部外围，射流口与进气口连通。由于负压通道下部具有射流，所以使得负压通道上部的空气快速往下流，从而可以将金属熔滴打散在需要喷金的位置上。本实用新型的风幕分散器在通道下部外周设置射流口，当射流口喷射出气体时，使得通道内产生负压，从而可以借助其负压引导喷金材料落入指定位置，而通道外周则有射流口喷射出气体形成的风幕保护，减少喷金材料吹出负压通道的投影区域外，从而减少喷金材料的浪费。
基本信息
专利标题 ：
风幕分散器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020568746.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-16
授权号 ：
CN211921669U
授权日 ：
2020-11-13
发明人 ：
孔祥路
申请人 ：
佛山市孔星材料应用研究院有限公司
申请人地址 ：
广东省佛山市顺德区伦教熹涌村委会伦教工业区新熹三路北6号明路工业园三楼
代理机构 ：
佛山市名诚专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
吕培新
优先权 ：
CN202020568746.3
主分类号 ：
C23C4/131
IPC分类号 ：
C23C4/131 C23C4/08 H01G13/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4/00
熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆（堆焊入B23K，例如B23K5/18，B23K9/04
C23C4/04
以镀覆材料为特征的
C23C4/131
电弧喷涂
法律状态
2020-11-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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