双重无接触式清洗处理系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种双重无接触式清洗处理系统，包括第一线性移动机构、第二线性移动机构和滚轮传送机构，还包括第一干式超声清洗设备、第二干式超声清洗设备和等离子处理设备，第一干式超声清洗设备的下方对应设有第一吸附机构，第一线性移动机构带动所述第一吸附机构作线性运动；第二干式超声清洗设备的上方设有第二吸附机构，所述第二线性移动机构带动所述第二吸附机构作线性运动；所述等离子处理设备包括用于固定产品的固定机构和上下对应设置的第一等离子处理机构和第二等离子处理机构。集超声波清洗设备和等离子清洗设备为一体，可进行多维度清洗，清洗效果好，且效率高。
基本信息
专利标题 ：
双重无接触式清洗处理系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020584700.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-17
授权号 ：
CN212442391U
授权日 ：
2021-02-02
发明人 ：
罗弦
申请人 ：
深圳市诚峰智造有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区沙井街道洪田孖宝工业区15栋3楼
代理机构 ：
深圳市博锐专利事务所
代理人 ：
王芳
优先权 ：
CN202020584700.0
主分类号 ：
B08B7/02
IPC分类号 ：
B08B7/02 B08B7/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
B08B7/02
弯曲、拍打或振动被清洁的表面
法律状态
2021-02-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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