经轴清理装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种经轴清理装置，其特征在于：包括机架、设置于机架上的清理机构及支撑机构，所述支撑机构为两组，两组支撑机构对称设置于所述机架的左侧及右侧，所述支撑机构包括两组支撑辊，两组所述支撑辊平行设置，两组支撑辊之间设有支撑间距，两组所述支撑机构的支撑间距设置于同一直线上；所述清理机构包括横向滑轨、滚珠丝杠、支架、第一电机、第二电机、传动轮及打磨带。本实用新型提高了经轴的打磨清理效率及质量，降低了操作人员劳动强度。
基本信息
专利标题 ：
经轴清理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020587374.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-17
授权号 ：
CN212470932U
授权日 ：
2021-02-05
发明人 ：
张顺悦
申请人 ：
江苏鸿展新材料科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴江区七都镇亨通大道1088号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020587374.9
主分类号 ：
B24B21/00
IPC分类号 ：
B24B21/00 B24B21/18 B24B21/20 B24B41/02 B24B47/20
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B21/00
使用磨削或抛光带的机床或装置；以及附件
法律状态
2021-02-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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